高分辨率场发射扫描电镜及其附属相关功能介绍
2012/11/14
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1.概括
该设备为美国FEI公司生产，型号为Helios nanolab 600i。设备先进程度极高，目前国内高校及研究所仅有几台。扫描操作界面和功能与目前分析测试中心所属的FEI场发射扫描电镜Quanta 200F相同，十分简单。同时，该设备还配备了离子束系统，能够实现电子/离子双束操作。功能十分强大可以实现SEM(二次电子和背散射成像)、EDS、EBSD分析、TEM样品制备及其它微纳米加工等。
2.主要功能：
Ø SEM分析—可以进行二次电子形貌分析，断口分析且图像分辨率极高。可以进行背散射电子衬度成像分析，具有世界最先进的CBS背散射探头，背散射图像及其清晰，分辨率非常高。
Ø EDS能谱分析—具有牛津公司Oxford能谱分析系统，分析精度高，速度快，能够实现点分析、面分析、线扫描和面扫描等。
Ø EBSD背散射电子衍射分析--具有HKL公司先进的EBSD附件，可以进行晶体取向成像、显微织构、晶界等分析，分析速度快，标定准确度高。
Ø TEM样品制备及微纳加工。聚焦离子束系统(FIB)是把离子束斑聚焦到亚微米甚至纳米级尺寸，以很高的能量和较短的波长直接把需要加工的图案或结构转移到较硬的基体材料上，实现TEM样品制备，此外还可对材料和器件进行刻蚀、沉积等微纳米加工。
3.试样尺寸要求：
Ø 试样高度小于50mm时，长宽小于60×60mm2或直径小于60mm。
4.设备预约须知：
由于此设备功能多，故分成两个类型：
l SEM、EDS和EBSD请预约设备：(可以预约周一至周五)
l FIB制样及微纳加工请预约设备：（排队预约，周六和周日开放）
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操作人员：魏大庆（13796665111）、郭舒（13654500223）
5.收费标准:
l SEM、EDS、EBSD：200元/小时
l FIB制样：550元/小时；
备注：1.该价格是校内价格，校外加倍（FIB制样除外）
2.FIB制样校外1200元/小时
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2012年11月14日
